EWMA圖在監(jiān)控過程均值相對于目標(biāo)值的漂移方面比較靈敏，適用于6σ管理的高質(zhì)量過程控制。此外，EWMA圖還可以在常規(guī)控制圖判斷過程是否受控時，進(jìn)一步用于監(jiān)控過程位置的變化。所以在使用EWMA圖之前，要用X-R圖分析過程。確定過程是否處于受控狀態(tài)。
另外,EWMA圖和X-R圖的明顯區(qū)別在于，X-R圖的控制界限是固定的，而EWMA圖的控制界限是動態(tài)的，計算控制界限是針對每個子群的，所以每個點的控制界限不一定相同，在圖中表現(xiàn)為控制界限像長城一樣曲折。當(dāng)子組樣本數(shù)增加時，兩條控制線逐漸趨于穩(wěn)定，接近一條直線。
Minitab軟件可以生成EWMA圖。可以形成應(yīng)用菜單?；静襟E如下:
選Stat>Control Charts>EWMA，點擊進(jìn)入對話框，仿照X-R圖的菜單填入Subgroups等選項。
其中，Zσ為第一組的EWMA值，x為采樣數(shù)據(jù)的總平均值，Zi為第一組后每組的EWMA值，Xi為第I子組的平均值，Zi-1為第i-1組的EWMA值。
這里λ是一個權(quán)重系數(shù)，取值范圍在(0，1)之間。要求EWMA圖檢測位置偏差越靈敏，λ的值應(yīng)該越小。當(dāng)λ=1時，EWMA控制圖退化為常規(guī)控制圖。在Minitab軟件中，默認(rèn)λ=0.2。
看EWMA圖的中線和控限。中線的值等于X，在EWMA圖控制極限的公式中，k的值一般取3，即UCL=X+3cσi，LCL=X-3σi，σi為對應(yīng)的EWMA值的標(biāo)準(zhǔn)差，其數(shù)值計算由軟件自動完成，讀者無需了解其詳細(xì)的果汁計算公式。需要知道的一個性質(zhì)是σi的大小與λ的值有關(guān)，兩者呈正相關(guān)，即λ越大，σi相應(yīng)越大，控制限與中心線的距離越大，檢驗靈敏度越低；λ小時，σi相應(yīng)小，控制限與中心線的距離也小，檢驗靈敏度高。
現(xiàn)在用改進(jìn)前的均值-極差控制圖中的例子做EWMA圖分析，參數(shù)按照軟件的默認(rèn)值。在均值-極差控制圖的例子中，從R圖可以看出過程基本處于穩(wěn)定狀態(tài)。在X圖中，有兩個點超出了控制界限。EWMA圖與X-R圖相比，有一個點在控制限之外，上下控制限的距離縮小。EWMA圖的中線還是300.20mm，這說明EWMA圖對小的偏移能夠靈敏地反映。
如果要進(jìn)一步確定過程的變異，需要重新采樣，或者剔除被認(rèn)為是異常點的值。在常規(guī)控制圖的特性中，生產(chǎn)廠家采取措施改進(jìn)了部分工藝，并重新取樣，工藝基本穩(wěn)定。此時EWMA圖中的中心線較改進(jìn)前下移，同時樣本數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)差變小，控制上下限變窄，樣本間的振幅減小，整個生產(chǎn)過程更加穩(wěn)定。
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